这个是我20年前开发0.18时候遇到过,就是介质层crack,Al的沿着裂缝生长的whisker或者hillock,whatever。原因是电流大了,导致介质层膨胀,现象就是某个anode protrusion, cathod voiding。这个长须的地方应该是靠近正电极,看到熔融的地方是靠近负电极。问题是一般电流大了,局部融化应该是上面介质crack。下面crack就不太好理解,不知道这个介质...

发布于2022-05-16

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ppm 这个跨度/在不同应用还是挺大的。比如 ST 某soc芯片,消费级和工业级算一类,50ppm比如 Sierra针对普遍小芯片,消费级和工业级算一类,80~100ppm比如Qualcomm AP, 给ODM大概500ppm比如业内智能卡,大概2~3000ppm其实有时不是客户要求多少,其实是自己能做到多少,自家的芯片一般自己前期做的细的话,基本心中有数的,margin够不够,兼容性好不好,卡的...

发布于2022-05-16

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