关于米勒电容Crss,在文档MOSFET的动态参数中,有公式如下参考图片,Crss电容是栅极通过氧化层对漏极的电容,对于开关过程,在第2阶段,沟道打开后,Ciss为什么增加了,是什么原因?另外,AON6450规格书上的测试条件是VDS=50V的情况,这个测试的条件基于什么原因?是否可以给出其它条件下的电容值?

歌岛礼矢半导体器件原理 2022-05-17 14:52:46 371阅读 北京市 中国人民公安大学
关于米勒电容Crss,在文档MOSFET的动态参数中,有公式如下参考图片,Crss电容是栅极通过氧化层对漏极的电容,对于开关过程,在第2阶段,沟道打开后,Ciss为什么增加了,是什么原因?另外,AON6450规格书上的测试条件是VDS=50V的情况,这个测试的条件基于什么原因?是否可以给出其它条件下的电容值?

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1条回答

  • 青柠
    2022-05-17 14:53:22
    Ciss增加的原因是Crss增加,图中器件导通后,Wdep减小,Crss就增加。对于100V的器件,比如AON6450,由于在米勒平台区,极限的情况VGD将从100V降到10V以内。Coss、Crss都是动态电容,容值随着VDS而变化,而且不是线性关系。数据表中所采用的测试条件,是行业通常采用的标准,以50%的VDS测试。数据表中提供了电容曲线,可以查到80%或100%的数据。
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