什么是明场像、暗场像？
●明场像：用物镜光阑选择透射束成像时，获得的电子显微像称为明场像（BF：bright field image）
●暗场像：通过移动物镜光阑选择一个衍射束成像称为暗场像（DF：dark field image）
●中心暗场像：如果保持物镜光阑孔位于光轴上，用偏转线圈将选定的衍射束偏转到荧光屏中心，令其通过物镜光阑形成的像是中心暗场像（CDF：centre bright field image）
透射电子显微像观察中用物镜光阑确定成像的电子束
（备注：物镜光阑位于物镜后焦平面上，可以遮挡散射电子而提高试样像的衬度。）
明、暗场像的衬度是相反的？
●通常情况下，在明场下，满足布拉格衍射条件的位置为暗的衬度，而不满足布拉格衍射条件的位置为亮的衬度。
●而在暗场下，暗场像的衬度与对应选择的衍射束有关；如果采用任意一个弱的衍射束（即偏离布拉格条件比较远的衍射束）用于形成暗场像，则并非所有部分的衬度都是相反的。
上图给出Cu12.7Al合金马氏体例子，明暗场像衬度并非正好相反。
图（a）是明场像；图（b）是衍射花样，由两套衍射斑点叠加；图（c）是物镜光阑位于衍射斑A的CDF；图（d）是物镜光阑位于衍射斑B的CDF.
●值得注意的是，如果接近理想双束条件，即除透射束外，仅有一束强衍射束，则此衍射束强度与直射束强度之和近似等于入射电子束强度。此时，明、暗场像的强度近似为互补关系。
我们常说：一个晶粒内，双束衍射条件下，明场像与暗场像的衬度恰好相反。
明场像有什么作用？
●形貌观察是TEM中最基本的测试项目，且一般使用明场像进行形貌观察。
明场像中晶粒的衬度与晶粒取向有关，而一般情况下相邻晶粒之间的晶体取向是不同的，因此不同的晶粒有不同的衬度，所以在明场像中能够得以区别不同的晶粒，从而可以进行晶粒尺寸统计。
形貌观察，亦可用于晶粒统计
●当晶体中存在畸变时，晶内某些区域的晶体学取向会发生微小的变化，从而在明场像中产生衬度上的差别。
因此利用明场像可以观察点缺陷、线缺陷（位错）、面缺陷（孪晶、层错）等。
位错
层错
孪晶
●基体和第二相的衍射条件一般也是不同的，因此稍有经验的研究人员，可以在明场像中观察第二相的分布和第二相的尺寸。
第二相分布
当然，如果样品是纯非晶态，则不存在衍射衬度或取向衬度，只有质厚衬度。
非晶样品形貌
暗场像有什么作用？
●利用暗场像，可对晶体缺陷或第二相成像。
该类高温合金，析出相与基体完全共格，明场像下两者衬度接近，区分不明显，因此需要通过做中心暗场像来凸显第二相的形貌尺寸特征。
●利用暗场像，可统计晶粒尺寸，特别是塑性变形产生的细晶结构，因畸变严重，明场像下晶粒形貌不明显，利用暗场成像则能更准确地统计晶粒尺寸。
