丨分析服务简介
从材料角度、工艺制程角度、使用存储环境角度查找缺陷,定位失效点,从而找出失效的原因,并针对失效原因提出可行的改善建议。
丨分析服务范围
涵盖MOSFET、IGBT、DIODE、BJT,第三代半导体器件(SiC、GaN)等分⽴器件,以及上述元件构成的功率模块。出现的短路/阻性失效分析、开路失效分析、耐压值降低失效分析、漏电流超标失效分析、饱和电压增大失效分析、开启电压漂移失效分析、导通电阻增大失效分析。以及常见的键合、粘结料、引线框架涂镀层、电极铝熔融、金属化接触、元胞质量及结构均匀性、栅氧退化等导致的失效分析
丨分析服务标准
GJB 548B-2005微电⼦器件试验⽅法和程序
GJB 8897-2017军⽤电⼦元器件失效分析要求与⽅法
QJ 3065.5-98元器件失效分析管理要求
丨分析服务流程
一、失效信息背景调查,充分了解器件失效现象(不工作/导致上下端工作异常/异常引脚锁定)、失效比例(偶然/集中一批)、使用环境(户外/海边/高海拔等)、失效发生阶段(新产品/成熟产品)、工艺材料变更信息,这些都会有助于快速锁定问题根源。
二、制定失效分析方案,根据提供背景信息结合技术经验,制定有针对性的分析方案可以降低失效分析成本,加快失效分析进度,提高失效分析成功率。同时对各种可能的原因准备相应的处理措施。(制定的方案不会是一成不变的,实际分析项目会根据新发现的现象和分析结果及时调整)
三、通过各种非破坏、半破坏、破坏性试验确定失效位置,这里需要高超的制样技巧和设备精度,目的是最大限度地防止把被分析器件的真正失效因素、迹象丢失或引入新的失效因素,以期得到客观的分析结论。
四、根据失效位置形貌、元素成份、物理结构,结合失效背景、技术经验,推断导致失效可能原因,并逐个排查最终找到失效根因形成逻辑闭环。
五、预防与改进措施建议,客户往往忽略这一点,根据失效原因进行重现及提出改进措施(更优原材料、优化工艺参数、器件结构改进、更合理的测试方法及条件、更严格的质量监控等)最终关闭此问题点。
丨分析服务周期
1周~2周
丨常见测试内容
1、电学性能测试
IF、UR、IR,VSD、IDSS、BVDSS、IGSS、VGS(TH)、RDS(ON)、VDS(ON),RG、CIES、COES,Td(ON)、Tr、Td(OFF)、Tf、EON、EOFF、Trr、Qrr、Irrm、QG,Rth(j-c)等静态、动态参数
2、塑封料
注塑工艺评价、缺陷查找、胶水基材种类、有无污染物、气泡,气密性评估、胶水耐热性、ESD元素分析、FTIR红外光谱分析
3、粘结料涂覆及固晶制程
粘结料涂覆工艺评价、缺陷查找、成份分析、空洞率、厚度,固晶工艺评价、顶针痕、吸嘴印、芯片平整度、污染物检测、钝化层损伤
4、芯片
芯片工艺观察、清洁度检查、耐压环及元胞微观结构测量、缺陷定位、缺陷暴露、抗静电能力检测
5、引线键合
引线键合工艺评价、一焊和二焊形貌观测、键合接触面微观形貌观测、键合IMC健康检测、弧形弧高测量、键合线直径测量、成份鉴定、PAD成份结构观测
6、引线框架
引线框架(含DBC等各种材质)涂镀层厚度测量、成份检测、工艺评价、缺陷查找、变色变粗糙等老化原因分析
类型 | 检测项目及设备 |
无损分析 | X 射线透视、声学扫描显微镜、⾦相显微镜 |
电特性/电性定位分析 | 电参数测试、IV&CV 曲线量测、ESD、Photon Emission、OBIRCH、ATE 测试与三温(常温/低温/⾼温)验证 |
破坏性分析 | 开封、去层、切⽚、芯⽚级切⽚、推拉⼒测试 |
微观显微分析 | DB FIB切⽚截⾯分析、FE SEM 检查、EDS微区元素分析、扫描电镜、透射电镜 |