想请教一下:
1.gate oxide layer如何形成缺陷?
2.如何预防解决gate oxide layer的缺陷,防止gate oxide击穿?
3.都说导致空洞最大原因跟封装厂贴片有关,那除了贴片原因外,还有什么情况也会导致空洞的发生?
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